石墨烯納微片改性芳綸研磨分散機

產品型號： GMD2000

所屬分類：高速分散機

更新時間：2025-11-20

簡要描述：石墨烯納微片改性芳綸研磨分散機為立式分體結構，精密的零部件配合運轉平穩，運行噪音在73DB以下。同時采用德國博格曼雙端面機械密封，并通冷媒對密封部分進行冷卻，把泄露概率降到低，保證機器連續24小時不停機運行。

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一、產品關鍵詞

石墨烯納微片改性芳綸研磨分散機，石墨烯芳綸漿研磨分散機，德國進口研磨分散機，管線式研磨分散機，特制款雙入口研磨分散機

二、研磨分散機的設計

SGN研磨分散機設計*，能夠延長易損件的使用時間，因此尤其適合高硬度和高純度物料的粉碎?？梢砸粰C多用，也可以單獨使用，且粉碎粒度范圍廣，成品粒徑可以進行調整。

隨著新能源汽車市場的發展，新能源汽車能走多遠，zui終取決于動力電池，而隔膜是鋰離子電池重要的組成部分，其性能決定了電池的界面結構、內阻等，直接影響電池的容量、循環性能和安全性能等特性。隨著平板電腦和電動汽車的普及，傳統聚烯烴隔膜的熱收縮性能較差，無法滿足動力電池高安全、高比能量密度的要求。除此之外，聚烯烴類隔膜天生的疏水性和低表面能使其不利于被極性電解液所潤濕，同時，聚烯烴類隔膜低的孔隙率也將導致隔膜的吸液率較低，這些將嚴重影響電池的循環性能和倍率性能，限制其在高能量鋰電池中的應用。因此，研發具有優異性能的新型隔膜已經成為鋰離子電池，尤其是動力鋰離子電池發展的已是當務之急。

三、芳綸的簡介

芳香族聚酰胺（芳綸）是一種高強度、高模量、低密度和耐磨性好的有機合成材料，具有優異的耐高溫性、良好的尺寸穩定性、高的力學性能及良好的防火性。針對現有隔膜性能的不足，現有技術中以芳綸纖維為載體的鋰離子電池隔膜及其制備的技術。

四、研磨分散機的工藝

上海思峻的研磨分散機特別適合于需要研磨分散均質一步到位的物料。研磨分散機為立式分體結構，精密的零部件配合運轉平穩，運行噪音在73DB以下。同時采用德國博格曼雙端面機械密封，并通冷媒對密封部分進行冷卻，把泄露概率降到低，保證機器連續24小時不停機運行。

五、GMD2000系列研磨分散機的結構：研磨式分散機是由錐體磨，分散機組合而成的高科技產品。

第yi級由具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調整到所需要的與轉子之間的距離。在增強的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。

第二級由轉定子組成。分散頭的設計也很好地滿足不同粘度的物質以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉子（乳化頭）和批次式機器的工作頭設計的不同主要是因為 在對輸送性的要求方面，特別要引起注意的是：在粗精度、中等精度、細精度和其他一些工作頭類型之間的區別不光是轉子齒的排列，還有一個很重要的區別是 不同工作頭的幾何學特征不一樣。狹槽數、狹槽寬度以及其他幾何學特征都能改變定子和轉子工作頭的不同功能。根據以往的慣例，依據以前的經驗工作頭來滿足一個具體的應用。在大多數情況下，機器的構造是和具體應用相匹配的，因而它對制造出zui終產品是很重要。當不確定一種工作頭的構造是否滿足預期的應用。

六、研磨分散機的結構

GMD2000石墨烯納微片改性芳綸研磨分散機為立式分體結構，有一定輸送能力，可以處理高固含量有一定粘稠度物料，GMD2000設計了符合漿液流體特性的特殊轉子，進行物料的推動輸送；所有與物料接觸部位均為316L不銹鋼，機座采用304不銹鋼；特殊要求如：硬度較大物料，對鐵雜質要求嚴苛的物料，管道有一定壓力并且需不間斷運轉的工況，可選磨頭噴涂碳化物或陶瓷；GMD2000改良型膠體磨腔體外有夾套設計，可通冷卻或者升溫介質。

設備其它參數:

設備等級：化工級、衛生I級、衛生II級、無菌級

電機形式：普通馬達、變頻調速馬達、防爆馬達、變頻防爆馬達、

電源選擇： 380V/50HZ、220V/60HZ、440V/50HZ

電機選配件： PTC 熱保護、降噪型

研磨分散機材質：SUS304 、SUS316L 、SUS316Ti,氧化鋯陶瓷

研磨分散機選配：儲液罐、排污閥、變頻器、電控箱、移動小車

研磨分散機表面處理：拋光、耐磨處理

進出口聯結形式：法蘭、螺口、夾箍

研磨分散機選配容器：本設備適合于各種不同大小的容器

七、從設備角度來分析，影響研磨分散機效果因素有以下幾點：

1.研磨頭的形式（批次式和連續式）（連續式比批次式要好）

2.研磨頭的剪切速率，（越大效果越好）

3.研磨的齒形結構（分為初齒、中齒、細齒、超細齒、越細齒效果越好）

4.物料在分散墻體的停留時間、研磨分散時間（可以看作同等電機，流量越小效果越好）

5.循環次數（越多效果越好，到設備的期限就不能再好了。）

線速度的計算：

剪切速率的定義是兩表面之間液體層的相對速率。

剪切速率 (s-1) =      v  速率 (m/s)  
              g 定-轉子 間距 (m)

由上可知，剪切速率取決于以下因素：

轉子的線速率

在這種請況下兩表面間的距離為轉子-定子 間距。
SGN 定-轉子的間距范圍為 0.2 ~ 0.4 mm  

速率V=  3.14 X  D（轉子直徑）X 轉速 RPM  /   60

所以轉速和分散頭結構是影響分散的一個zui重要因素，超高速分散均質分散機的高轉速和剪切率對于獲得超細微懸浮液是zui重要的。

型號：